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A violação de direitos autorais é passível de sanções civis e penais.
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Coleção Digital
Título: GLASS ELECTROTHERMAL POLING AND CHARACTERIZATION TECHNIQUES Autor: CAROLINE SOUSA FRANCO
Instituição: PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO - PUC-RIO
Colaborador(es):
ISABEL CRISTINA DOS SANTOS CARVALHO - ADVISOR
Nº do Conteudo: 5435
Catalogação: 09/09/2004 Idioma(s): PORTUGUESE - BRAZIL
Tipo: TEXT Subtipo: THESIS
Natureza: SCHOLARLY PUBLICATION
Nota: Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio.
Referência [pt]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=5435@1
Referência [en]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=5435@2
Referência DOI: https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.5435
Resumo:
Título: GLASS ELECTROTHERMAL POLING AND CHARACTERIZATION TECHNIQUES Autor: CAROLINE SOUSA FRANCO
Nº do Conteudo: 5435
Catalogação: 09/09/2004 Idioma(s): PORTUGUESE - BRAZIL
Tipo: TEXT Subtipo: THESIS
Natureza: SCHOLARLY PUBLICATION
Nota: Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio.
Referência [pt]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=5435@1
Referência [en]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=5435@2
Referência DOI: https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.5435
Resumo:
It is possible to create a second order non linearity in
silica samples with the poling process. The glass samples
with an induced X(2) have a potential application on the
fabrication of optical devices such as modulators and
frequency converters. In the electrothermal poling process,
high voltage and high temperature are applied to the
samples forming an ion depleted region (depletion layer),
where an intense electric field is permanently recorded. In
this work, several characterization techniques have been
utilized to measure the width of the depletion layer and
compared the obtained results. The chosen techniques were:
Interferometric Etching, Maker Fringe, Optical and Atomic
Force Microscopy and the Interferometric Etching with Real
Time Second Harmonic Measurement. In addition to this, we
performed other studies aiming the optimization and
reproducibility of the poling process. In this way, we
analyzed the material used for the electrodes and the
influence of the initial condition of the sample surface
before poling.
Descrição | Arquivo |
COVER, ACKNOWLEDGEMENTS, RESUMO, ABSTRACT, SUMMARY AND LISTS | |
CHAPTER 1 | |
CHAPTER 2 | |
CHAPTER 3 | |
CHAPTER 4 | |
CHAPTER 5 | |
REFERENCES |