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| Título: |
CRESCIMENTO EPITAXIAL SELETIVO DE ESTRUTURAS SEMICONDUTORAS III-V VISANDO A INTEGRAÇÃO OPTOELETRÔNICA |
| Instituição: |
PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO - PUC-RIO |
| Autor(es): |
FRANCISCO JUAN RACEDO NIEBLES
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| Colaborador(es): |
PATRICIA LUSTOZA DE SOUZA - Orientador
MAURICIO PAMPLONA PIRES - Coorientador
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| Catalogação: |
07/12/2005 |
| Tipo: |
TESE
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Idioma(s): |
PORTUGUÊS - BRASIL
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| Referência [pt]: |
http://www.maxwell.lambda.ele.puc-rio.br/Busca_etds.php?strSecao=resultado&nrSeq=7569@1 |
| Referência [en]: |
http://www.maxwell.lambda.ele.puc-rio.br/Busca_etds.php?strSecao=resultado&nrSeq=7569@2 |
| Resumo: |
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A integração monolítica de um modulador com um guia de
onda é de muito interesse para aplicação em comunicações
ópticas pelo fato de que podemos diminuir as perdas por
acoplamento óptico entre os dois dispositivos e usar
moduladores curtos que operem em altas taxas de
transmissão de dados. O crescimento epitaxial seletivo é
uma das técnicas mais promissoras na atualidade para
aplicação na integração monolítica de dispositivos
semicondutores. Esta técnica permite controlar a espessura
e a tensão das camadas crescidas seletivamente permitindo
otimizar a integração e as características das estruturas
dos dispositivos.
A tese trata da implementação, do estudo e da aplicação do
crescimento epitaxial seletivo por MOCVD de estruturas
casadas e tensionadas de poços quânticos múltiplos de
InGaAs/InAlAs para a fabricação de moduladores de
amplitude baseados no efeito Stark e sua integração com
guias de onda. O desempenho dos moduladores, baseados em
estruturas de poços quânticos múltiplos de InGaAs/InAlAs
que operam em 1,55 ym, é notavelmente melhorado quando é
introduzida uma composição de 52% de Ga na liga e se tem
um poço de ~100 A de espessura. Nesse caso, os moduladores
possuem uma elevada figura de mérito e podem ser
insensíveis à polarização.
Nesse estudo foram crescidas várias amostras onde foi
analisado o aumento na taxa de crescimento e a variação na
composição das ligas de InGaAs e InAlAs em material bulk e
em poços quânticos de InGaAs/InAlAs em função da geometria
da máscara utilizada, i.e. diferentes larguras do
dielétrico e largura da janela onde ocorre o crescimento
fixo. Finalmente foram processados guias de onda cujas
estruturas foram crescidas com a técnica de crescimento
seletivo. Esses guias foram caracterizados por técnicas de
campo próximo.
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